[ความต้องการสูง] ว่าด้วย EUV หรือ Extreme Ultraviolet Lithography เป็นสุดยอดเครื่องจักร ที่กำเนิดอุปกรณ์พกพาหรือชิปประมวลผลมาแล้วนักต่อนัก โดยมี TSMC เป็นลูกค้ารายใหญ่ที่สุด และเครื่องหนึ่งก็มีมูลค่ากว่าหมื่นล้านบาท แต่มีรายงายล่าสุดเผย ASML เตรียมผลิตเครื่องดังกล่าวมากถึง 60 เครื่องภายในปีนี้ สะท้อนความต้องการชิป AI อย่างถึงที่สุดในยุคปัจจุบัน
ทุกวันนี้บริษัทอย่าง Nvidia , TSMC , Samsung และ Intel ต่างต้องการสร้างชิปที่เล็กลงและแรงขึ้นเพื่อรองรับโมเดล AI ขนาดใหญ่ แต่การจะทำเช่นนั้นได้ก็ต้องมีเครื่อง EUV โดนล่าลุดบริษัทสัญชาติเนเธอร์แลนด์อย่าง ASML ที่ต้องวางแผนสร้างเครื่อง EUV อย่างน้อยถึง 60 เครื่องในปีนี้
เพื่อตอบสนองความต้องการชิป AI ที่พุ่งสูงขึ้น โดยตัวเลขดังกล่าวสูงกว่ายอดขายปี 2025 ถึง 36% ถือเป็นกำลังขยายการผลิตในอัตราที่หาได้ยากในอุตสาหกรรมอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ เนื่องจากความต้องการโครงสร้างพื้นฐาน AI ที่เร่งตัวขึ้นตามการลงทุนทั่วโลก
สำหรับการเร่งสร้างเครื่อง EUV นั้น ก็จำเป็นต้องปรับทั้งปรุงโรงงาน ขยายความจุคลีนรูม และทุ่มงบประมาณลงทุนหลายพันล้านดอลลาร์ฯ เพื่อให้บรรลุเป้าหมายอย่างน้อย 60 เครื่องในปีนี้ ซึ่งเพิ่มขึ้นอย่างมากจากปี 2025 และตั้งเป้าจะเพิ่มกำลังการผลิตเป็นอย่างน้อย 80 เครื่องต่อปีในระยะถัดไป ในขณะเดียวกัน บริษัทกำลังพยายามปรับปรุงประสิทธิภาพการทำงาน รวมถึงการอัปเกรดเครื่องจักรให้สามารถประมวลผลแผ่นเวเฟอร์ได้มากขึ้นต่อชั่วโมงด้วย
อย่างไรก็ตาม ASML กำลังเผชิญกับข้อจำกัดในการผลิตเครื่องจักรที่ซับซ้อนที่สุดในโลกเครื่องหนึ่ง เครื่อง EUV แต่ละเครื่องใช้เวลาหลายเดือนในการประกอบและต้องพึ่งพาส่วนประกอบจากเครือข่ายซัพพลายเออร์ขนาดใหญ่ เครื่องจักรเหล่านี้ใช้เลเซอร์เปลี่ยนดีบุกหลอมเหลวให้เป็นแสง EUV เพื่อพิมพ์ลวดลายวงจรขนาดจิ๋วลงบนซิลิคอนเวเฟอร์ แม้แต่ฝุ่นละอองเพียงเล็กน้อยก็สามารถขัดขวางกระบวนการผลิตได้ ซึ่งเป็นข้อจำกัดในการเร่งขยายกำลังการผลิต
เพื่อบรรเทาข้อจำกัดเหล่านี้ ASML ได้ขยายพื้นที่คลีนรูมในสหรัฐฯ เยอรมนี และเกาหลีใต้ และมีแผนจะเริ่มก่อสร้างวิทยาเขตใหม่ใกล้กับสำนักงานใหญ่ในเนเธอร์แลนด์ แต่แน่นอนว่างบประมาณการใช้จ่ายก็เพิ่มขึ้นเช่นกัน โดย ASML คาดว่าจะลงทุนประมาณ 2.2 พันล้านดอลลาร์ในปีนี้ นอกจากนี้ยังมีการใช้จ่ายมากขึ้นในการจ้างงานและฝึกอบรมวิศวกร แม้ว่าปัญหาการขาดแคลนแรงงานจะยังคงเป็นความท้าทายในเนเธอร์แลนด์ก็ตาม
ASML ยังทำงานใกล้ชิดกับซัพพลายเออร์มากขึ้น โดยผู้บริหารระดับสูงจะเข้ามาดูแลการประสานงานกับซัพพลายเออร์โดยตรงเพื่อป้องกันความล่าช้า เนื่องจากหากขาดส่วนประกอบเพียงชิ้นเดียว การประกอบขั้นสุดท้ายก็จะไม่สามารถดำเนินต่อไปได้
ในขณะที่ความต้องการเครื่อง EUV มาตรฐานยังคงแข็งแกร่ง แต่การยอมรับระบบเจเนอเรชันถัดไปอย่าง High-NA EUV ยังคงมีความไม่แน่นอน เครื่องจักรขั้นสูงเหล่านี้ให้ความละเอียดและประสิทธิภาพที่สูงกว่าแต่มาพร้อมกับต้นทุนที่สูงขึ้นมาก ทำให้ผู้ผลิตชิปบางรายชะลอการเปลี่ยนผ่านและหันไปเน้นการดึงประสิทธิภาพสูงสุดจากแพลตฟอร์ม EUV เดิมที่มีอยู่แทน เพื่อตอบสนองเรื่องนี้ ASML จึงเสนอการอัปเกรดระบบที่ติดตั้งไปแล้วเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพและผลผลิต
ในระยะยาว ASML กำลังพัฒนาแหล่งกำเนิดแสงที่แรงขึ้นเพื่อเพิ่มประสิทธิภาพการทำงาน ซึ่งการปรับปรุงเหล่านี้จะใช้เวลาหลายปีกว่าจะเริ่มใช้งานได้อย่างเต็มรูปแบบ แต่ถือเป็นกุญแจสำคัญเมื่อการออกแบบชิปยังคงเล็กลงเรื่อย ๆ เช่น 2 นาโนเมตรในปัจจุบัน
ที่มา : Techspot
